半導體行業廢氣處理
半導體行(háng)業(yè)廢氣主要指的是電解質、矽、金屬、化學物質和有機物質等的廢氣。半導體工藝廢氣中的電解質廢氣主要來源於表麵(miàn)處理過程的清洗工序,而矽、金屬和化學物質廢氣主(zhǔ)要來源於製造工藝中的燒結、熔體澆注、清洗、蒸鍍和磷化等工序。有機物質廢氣主要來源於製造過程中使用的有機溶劑和有(yǒu)機物質的燃燒反應。
半導體廢氣處理方(fāng)法
目前,半導(dǎo)體行業有機(jī)廢氣處理方(fāng)法主要以下幾(jǐ)種方法:1、活性炭吸附法;2、燃燒法;3、化學法。酸堿(jiǎn)性廢氣可以選用洗滌塔、噴淋塔、吸收塔。
活性炭吸附是利用活(huó)性炭的吸附性質(zhì),通過接觸吸附,使廢(fèi)氣中的有害物質與活性炭(tàn)表麵結合,從而達到淨化廢氣的(de)目的。燃燒法是將廢氣中的有害物質(zhì)通過燃燒的(de)方式銷毀,減少對環境的汙染。化學吸收是利用吸收劑的吸收性質(zhì),使廢(fèi)氣中的有(yǒu)害物質與吸收劑發生化學反應或(huò)物理反應,使其轉化為(wéi)無害物質,從而淨化廢(fèi)氣。
目前,半(bàn)導體行業廢氣排放標準不同步,我國半(bàn)導體行業廢氣排放標準主要以《半導體工(gōng)業大氣汙染物(wù)排放標準》為(wéi)主(zhǔ),但是這個標準的主要(yào)適用(yòng)對象是生產芯片的企業,而且許多地區都有自己的排放標準,所以最終需要參考當地環保要求。
隨著(zhe)半導體行(háng)業的不斷進步(bù),半導體行業(yè)的廢氣處(chù)理技術也在不斷發展。根據不同的工藝(yì)流(liú)程,廢氣處理(lǐ)設備也(yě)會有所不同,不僅可以滿足(zú)環保排放標準,還能大大降低企業處理成本。